| 一、适用于各种样品的元素分析、同位素分析。 二、技术指标 2.1、仪器总体要求: ★2.1.1、电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)要求为“三重四极杆串级质谱”或“多重四极杆串级质谱” 或“双重四极杆+八极杆串级质谱”结构,由电感耦合等离子体离子源、四极杆离子偏转提取系统、四极杆碰撞反应池、四极杆质量过滤器、离子检测系统等部分构成; 2.1.2、仪器要求能进行样品定性、半定量、定量、同位素比分析; 2.2、进样系统: 2.2.1、配置高灵敏度同心雾化器和小体积旋流雾室进样系统; 2.2.2、为减小样品记忆效应,雾室应直接连接到炬管的基座上,而无需在雾室与炬管之间使用传输管; 2.2.3、全景式彩色等离子体观测窗,实时监测锥孔及喷射管孔样品沉积,便于维护和清洗; 2.3、全基体进样系统(AMS): 2.3.1、全基体进样系统可实现样品气体稀释,稀释倍数≥(略)倍; 2.3.2、全基体进样系统可通入氧气,实现有机样品的直接进样分析; 2.3.3、全基体进样系统可通入等离子体改性气甲烷气,实现特殊应用分析; 2.3.4、全基体进样系统:(略) 2.4、射频发生器: ★2.4.1、高频率自激式全固态射频发生器,要求频率(略) MHz或以上; 2.4.2、具有虚拟接地的、不额外依靠外部物理接地的消除锥口二次电弧放电技术,无需屏蔽炬等额外安装与维护,无需屏蔽炬等额外消耗; 若采用屏蔽炬技术,需要提供5套屏蔽炬作为消耗品方便后续维护时更换。 2.4.3、等离子体炬位XYZ三轴计算机全自动调节; 2.5、气体控制:(略) 2.6、接口: 2.6.1、为保证最强离子東聚焦和耐各类样品基体,接口部分应由锥构成; 2.6.2、为保证各类样品基体长时间运行稳定性,锥上不应施加电压; 2.6.3、锥间不通入气体; 2.7、四极杆离子透镜系统: 2.7.1、四极杆设计,可同时进行目标离子选择和不带电物质去除;或者采用离子透镜方式进行偏转去除中性粒子; 2.7.2、(略)度离子偏转技术,实现分析离子与未电离的中性粒子和光子彻底分离 2.7.3、离子透镜彻底免维护; 2.8、四极杆碰撞反应池: 2.8.1、具有轴向加速的四极杆碰撞反应池系统; 2.8.2、具有动作甄别碰撞模式消除干扰; 2.8.3、具有四极杆动态带宽调谐反应模式消除干扰,能实现反应模式; 2.8.4、可以使用包括氦气,氢气、甲烷,氧气等多种碰撞或反应气体及混合气; 2.8.5、单次分析中,可实现标准模式、碰撞模式和反应模式切换,不同模式切换时间小于(略)秒; 2.9、四极杆质量分析器: 2.9.1、质量范围:(略) 2.9.2、驱动频率≥2.5 MHz; 2.9.3、具有高分辨和标准分辨率模式,可以对不同元素进行不同分辨率的设定,要求在一次样品测试中,可以在线连续调节 8 种以上不同分辨率,调节范围 0.2-2.0amu,可以在一次方法分析过程中使用,以便通过变化分辨率扩大样品分析应用范围; 2.9.4最小驻留时间:(略) 2.(略)、检测器: 2.(略).1、长寿命、双模(脉冲方式和模拟方式检测)同时型检测器; 2.(略).2、具有智能电子稀释技术,动态线性范围(略)个数量级; 2.(略)、真空系统:(略) 2.(略)、软件: 2.(略).1、操作系统:(略) 2.(略).2、可实现仪器自动开机、自动优化、自动分析和自动关机的无人值守分析; 2.(略).3、多元素分析不同元素可以设置超过(略)个不同的分辨率; 2.(略).4、ICP-MS操作软件允许在多台电脑((略)台以上)脱机安装并处理数据以及操作演示; 2.(略)、仪器整体性能: 2.(略).1、灵敏度:(略) 2.(略).2、随机背景:(略) 2.(略).3、氧化物离子(CeO+/Ce+)≤2.5%,不使用制冷雾室; 2.(略).4、双电荷离子(Ce2+/Ce+) ≤3.0%; 2.(略).5、检出限:(略) 2.(略).6、稳定性:(略) 2.(略).7、同位素比精度:(略) 2.(略).8、低含量受干扰元素分析能力:(略) 2.(略).9、同时形态分析能力:(略) 三、配置要求 3.1、配备相关试剂耗材 3.2、工作站:(略) 3.3、相适用的仪器稳压电源:(略) |